商铺名称：深圳市秋山贸易有限公司
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商品详情
- 化合物半导体合金化
- Si，化合物半导体RTA
- 陶瓷基板层压板的烧成炉
- 玻璃/陶瓷基板退火炉
- 石英室可以选择气流型或真空型（标准为气流型）
- 作为一种选择，可以将气流类型和真空类型组合在一起。
- 您可以轻松设置温度程序并从计算机输入外部信号。
- 另外，可以在个人计算机上显示加热期间的温度数据。
- 硅晶片和复合晶片的高速加热
- 电子材料的高速加热，例如光学CVD基板加热
- 玻璃基板，陶瓷，复合材料等的热处理
- 热循环测试
- 金属材料的退火
- 涂膜的耐热性评价
- 加热和干燥有机材料和树脂
- 可以进行最大50平方毫米样品的热处理
- 最高温度1200℃
- 能够高速加热和冷却的红外金色图像集成了加热室和温度控制器的台式加热装置
- 您可以轻松设置温度程序并从计算机输入外部信号。
- 可以在个人计算机上显示加热过程中的温度数据。
- SiC涂层碳基座
- 真空排气系统（RP，DRY，TMP等）
- 气体流量计（浮子式流量计）
- 冷却水流量开关
- 止回阀（泄压阀）
- 电源线，冷却水软管
- 冷却水循环装置
- 手持式点焊机（HS-9000）
- 方便的方舟焊机（HA-1H）
- 测量有机膜在厚度方向上的膨胀
- 低膨胀玻璃的高精度膨胀测量
- 低膨胀金属材料的质量控制测量
- 密封剂的膨胀率测量
- 各种电子元件的精确热膨胀测量
- 标准热膨胀仪校准样品的测量
- 平行移动样品架可实现稳定的测量
- 超精密测量，读数分辨率为1 nm
- 如果使用石英样品，则可以测量厚度为50至500μm的薄膜或薄板的厚度。
| 产品参数 | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 其他 | ||
| 产地 | 日本 | ||
| 是否进口 | 否 | ||
| 订货号 | 56 | ||
| 加工定制 | 是 | ||
| 测量范围 | 0.01-9 | ||
| 测量精度 | 0.001 | ||
| 分辨率 | 320 | ||
| 电源电压 | 220 | ||
| 是否跨境出口专供货源 | 否 | ||
| 出厂地 | 日本 | ||
| 尺寸 | W210 x H280 x D180 mm | ||
| 可售卖地 | 北京;天津;河北;山西;内蒙古;辽宁;吉林;黑龙江;上海;江苏;浙江;安徽;福建;江西;山东;河南;湖北;湖南;广东;广西;海南;重庆;四川;贵州;云南;西藏;陕西;甘肃;青海;宁夏;新疆 | ||
| 用途 | 物性检测 | ||
| 等级 | 优等 | ||
| 型号 | SSA系列 | ||
| 货号 | 456 | ||
日本advance riko简易红外灯加热装置SSA系列
红外金像一种用于熔炉和石英室的简单设备。
红外金像一种低成本的加热系统，由一个装有炉子和样品架的石英室组成。
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使用
特征
规格
模型加热方式温度范围热处理区均热区（加热时）热处理室石英样品架热电偶程序温度控制器
| SSA-E45 | SSA-E410 | SSA-P610C |
| 红外椭球反射聚光型 | 红外椭球反射聚光型 | 红外抛物线反射聚光型 |
| 室温?1400℃ | 室温?1200℃ | |
| φ15毫米x长度50毫米 | φ15mm×长100mm | φ50mm×长100mm |
| φ10毫米x长度40毫米 | φ10毫米x长度80毫米 | φ40mm×长80mm |
| 石英φ30（气流型） | 石英φ98（气流型） | |
| 石英制成（端口类型） | 石英制成（2英寸平板型） | |
| JIS“ R” 1对 | ||
| TPC5000-32-1 | TPC5000-62-1 | |
*温度范围取决于样品的热容量和红外线的反射/吸收。
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日本advance riko台式灯加热装置MILA-5050
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此设备是台式灯加热设备，可进行最大50毫米见方的样品尺寸的热处理。
自从MILA-5000系列台式电灯加热设备作为样品尺寸高达20平方毫米的加热设备推出以来，它已被许多客户使用，为此，我们使加热处理成为可能。至50 mm的正方形，同时保持集成了加热炉，炉膛和温度控制器的紧凑型机身。
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使用
特征
规格
温度范围加热速度样品尺寸加热气氛
| 室温?1200℃ |
| 50℃/秒 |
| 正方形50或φ50mm x厚度5mm |
| 在真空中，在各种气流中 |
*可以选择真空排气装置
*加热温度根据被加热材料的红外反射/吸收率，热容量和材料而异。
电源冷却水设备尺寸重量
| 交流200V 5kW |
| 自来水流量6L / min 压力0.3MPa以上 |
| 宽450 x深492 x高219（mm）不包括突起 |
| 约24kg |
选项
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日本advance riko激光热膨胀仪LIX-2 series
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激光热膨胀仪LIX-2 series
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低膨胀膜/有机膜的厚度方向和低膨胀玻璃/金属的微小热膨胀可以以1nm的最小分辨率进行检测。
测量热膨胀的方法包括推杆法，光学干涉法，远摄法和电容器法。
采用双光路迈克尔逊激光干涉测量技术，可实现精确的测量。
通过采用零摩擦平移镜，可以通过简单地将样品端面加工成球形表面来容易地进行测量。
另外，可选的石英垫片可用于在改变温度的同时测量低膨胀膜所需的厚度方向。双光路迈克尔逊激光干涉式热膨胀仪LIX-2是业内唯一的商用型号。
测量热膨胀的方法包括推杆法，光学干涉法，远摄法和电容器法。
采用双光路迈克尔逊激光干涉测量技术，可实现精确的测量。
通过采用零摩擦平移镜，可以通过简单地将样品端面加工成球形表面来容易地进行测量。
另外，可选的石英垫片可用于在改变温度的同时测量低膨胀膜所需的厚度方向。双光路迈克尔逊激光干涉式热膨胀仪LIX-2是业内唯一的商用型号。
使用
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特征
规格
模型温度范围样品尺寸测量气氛测量方式
| LIX-2M | LIX-2L |
| 室温?700℃ | -150-200℃ |
| φ3至6 mm x长度10 mm至15 mm长度方向的两端均球形加工 | |
| ?真空中?低压高纯度氦气 | |
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